GAIS - 即時新聞

...hography, 簡稱NIL）是一種創建光學超表面的工藝，利用圖案化印模快速轉移奈米尺度的複雜圖案。相比於電子束微影或其他製程方法，NIL技術成本更低，並且能使用傳統製程中無法獲得的材料創建超表面。更多新聞: 超表面

...了設計軟體的限制外，自2019年以來，中國也被禁止進口7奈米以下製程所需、艾司摩爾（ASML）製造的極紫外光微影製程（EUV）機器。目前只有三家晶片製造商在大規模生產中使用該設備，包括台積電、三星和英特爾。禁止H

...度，在宣布七奈米以下先進設備禁止輸陸，又向荷商艾司摩爾（ＡＳＭＬ）施壓最先進的極紫外光（ＥＵＶ）微影設備禁止出售給大陸，明顯是要阻擋大陸取得自製ＡＩ加速晶片的能力。大陸可能發展量子運算突圍工研院產業

...距可能是2005年以來最大的。從高階的晶片到初階成熟的晶片，美國頻頻出招祭出限令。台積電使用極紫外光微影設備生產更先進的3奈米晶片，但由於美國出口管制，這種設備不能銷往大陸。在此之際，大陸目前有能力製造7

...屆時鏡頭硬體製造也將邁入全新製程。Metalens的關鍵製程在於必須採用製造當中的深紫外光（DUV）微影、奈米等級的壓印微影等相關技術，采鈺已經成功拿下蘋果、非蘋陣營Metalens大單，明年可望開始放量出貨，隨著後續3D影像