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imec整合磷化銦小晶片與RF矽中介層 達到140GHz高頻的性能...高增益和功率效率，所以突顯了開發潛能。然而，現有的磷化銦技術有些缺點，例如採用小尺寸和經過電子束微影的處理，同時設計區域還有一大部分由被動元件和基於金（Au）的後端電路所占據—使得磷化銦應用受限於小眾 |
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DNP在超2nm世代的EUV微影光罩上實現精細圖案解析度 (2)...。DNP透過基於3nm世代成熟製造工藝的反覆改進，已達到超2nm世代所需的圖形解析度。•與標準EUV微影技術光罩相比，高NA EUV微影技術所需的光罩要求更高的精度和更精細的加工。DNP建立並優化了一套不同於傳統EUV光罩的製造流 |
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日本首相：日本可在全球晶片領域扮演「核心角色」 (2)...封鎖，先進半導體的供應就會中斷。」Rapidus會長、原東京威力科創（Tokyo Electron）前會長東徹郎表示，極紫外微影（EUV）設備將如期於本月安裝。他說：「超過200台機台將交付，並於明年3月底前全部就位。之後，試驗生產線將 |
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日廠DNP研發出"1奈米"晶片用光罩、已開始送樣...備廠等客戶。1奈米晶片預估將在2030年以後普及，將推升AI、自動駕駛性能。光罩使用於在矽晶圓上形成電路的微影製程，DNP此次研發的產品為使用於邏輯晶片的光罩，是和比利時半導體研發機構imec等合作研發而成，可支援被稱 |
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英特爾新聘兩位晶片業老將為董事 ASML前CEO和微芯董座入列 (5)...艾司摩爾，1984年至1989年任職英特爾，他也曾在Thomson、戴爾、ITT工作過。艾司摩爾現在生產的極紫外光（EUV）微影設備，是先進製程必備工具，英特爾採用相關設備延誤，讓它製造實力落後好幾年。 桑吉是微芯董事長，1991年 |